11兆9500億韓元EUV訂單 艾司摩爾(ASML)客戶確認增加

艾司摩爾(ASML)客戶端的設備確認訂單增加，人工智慧(AI)晶片擴產正轉化為生產設備訂單與先進製程轉換的具體行動。不過，這波動向並非多家客戶同步大舉下單同一款設備，而是EUV設備採購、High NA EUV量產導入、光罩(photomask)轉換合作三條線各自推進。

艾司摩爾(ASML)公布，2026年第2季營收為93億2600萬歐元，淨利29億1800萬歐元，同時將2026年全年營收展望上修至430億至450億歐元。

艾司摩爾(ASML)總裁暨執行長克里斯多福·富凱(Christophe Fouquet)表示：「客戶擴產計畫加速，帶動各產品線的客戶承諾同步增加，長期需求能見度也隨之提升。」這句話點出的背景是，AI相關投資正推升先進邏輯與記憶體晶片需求，使設備訂單的能見度跟著提高。

艾司摩爾(ASML)在2026年第2季法說會上表示，計畫在2027年將標準數值孔徑（Low-NA）EUV設備產能，由2026年的約65台基礎上再擴增30%；2028年是否再增加30%，公司仍在評估中。這兩項都屬於未來產能擴充的時程規劃，尚未定案。

各家客戶的動作並不一致。△SK海力士(SK hynix)3月24日公告，將以11兆9500億韓元向艾司摩爾(ASML)採購EUV微影設備，交貨期限至2027年12月31日，設備預計用於次世代產品量產。△英特爾(INTC)已將艾司摩爾(ASML)的High NA EUV設備，導入英特爾18A製程部分Core Ultra系列3處理器的生產。艾司摩爾(ASML)7月15日表示，這是首宗運用High NA EUV的高附加價值邏輯晶片量產案例，目前仍處於利用既有設備驗證良率與製造適用性的階段。△台積電(2330)與艾司摩爾(ASML)9月8日宣布展開12吋光罩轉換合作計畫，雙方預計2031年建置12吋光罩試產線，並在2033年前完成先進製程量產所需的設備準備；台積電(2330)表示，計畫自2030年起將High NA EUV導入量產。

光罩是將半導體電路圖形轉印到晶圓上時使用的母版。12吋光罩轉換是配合晶圓大型化，改造光罩製程產能與設備體系的嘗試，與EUV設備本身的新增訂單屬於不同的合作項目。

EUV是利用極紫外光波長，將半導體電路刻印在晶圓上的微影技術。High NA EUV則是採用比既有EUV更高數值孔徑、可實現更精細電路圖形的次世代技術，需要設備導入與良率驗證同步推進，才能真正擴大量產規模。

艾司摩爾(ASML)表示，2027年的EUV產能幾乎已被預訂，2028年訂單也已取得相當比例的確保。路透社(Reuters)引述艾司摩爾(ASML)財務長(CFO)的說法報導，中長期設備需求的能見度，正領先於短期業績提前浮現。

在手訂單基礎同步擴大。艾司摩爾(ASML)表示，截至2025年底，在手訂單金額為388億歐元；2026年1月曾將全年營收展望設定在340億至390億歐元，到7月法說會時再上修至430億至450億歐元。

整體來看，這波動向與其說是單一巨額設備訂單，不如說是AI記憶體與先進邏輯的擴產，同步延伸到設備、製程與光罩技術等不同領域。SK海力士確定下單EUV設備，英特爾啟動High NA EUV量產導入，台積電則推動大型光罩轉換，三者進度各不相同。

AI投資延伸至半導體製造基礎設施與供應鏈的趨勢，本刊此前也曾在半導體與設備供應鏈相關報導中提及。這次的案例顯示，AI需求的影響已從晶片設計與資料中心，擴及微影設備與生產製程的投資時程。

相關個股同步出現反應。荷蘭市場的艾司摩爾(ASML)股價，9月7日收盤報1500.40歐元，較前一交易日上漲2.25%；首爾市場方面，SK海力士股價9月8日上午上漲3.98%，三星電子上漲2.59%。

不過，產能擴充、High NA EUV量產導入與12吋光罩轉換，目前都仍屬於計畫階段的項目。SK海力士的設備交貨期限訂在2027年12月31日前，台積電的光罩試產線目標為2031年，先進製程量產準備則以2033年為目標推進。