蔡司擴建2萬5000㎡ 增產AI半導體光學零件

德國光學企業蔡司集團（ZEISS Group）將在奧伯科亨生產基地新增約2萬5000㎡空間，以因應人工智慧（AI）半導體需求增加。這項投資將擴大用於艾司摩爾（ASML）先進微影設備的核心光學零件產能。

蔡司半導體製造技術部門（ZEISS SMT）在7月24日的產能擴充公告中表示，將在德國奧伯科亨擴建生產及生產相關空間。該工程於2022年5月動工，2026年7月已有首批辦公空間進駐，新增建築將分階段投入運作。

弗蘭克·羅蒙德（Frank Rohmund）蔡司SMT執行長談到奧伯科亨與海外據點擴張時表示：「我們正在超前投資半導體產業的未來。」這次擴產重點放在下一代半導體製造所需的核心製程技術。

蔡司SMT是艾司摩爾（ASML）的策略合作夥伴，供應高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備所需的光學零件。換言之，蔡司負責先進微影設備供應鏈中的光學系統關鍵環節。

「High-NA EUV」是利用比既有EUV更大的數值孔徑，實現更精細電路圖案的下一代微影技術。蔡司說明，這項技術可支援下一代微晶片生產。

艾司摩爾在7月15日公布的2026年第2季財報中表示，當季營收為93億歐元，淨利為29億歐元。公司指出，AI相關投資擴大與技術進展，正在帶動先進邏輯與記憶體晶片需求。

克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）艾司摩爾執行長表示，客戶正在加快產能擴張計畫。蔡司此次擴建，也與因應設備需求而提升光學零件供應能力的方向一致。

艾司摩爾計畫在2026年約65台低數值孔徑EUV產能基礎上，於2027年再增加30%。公司也在評估2028年再次擴大30%產能的方案。

DUV浸潤式設備方面，艾司摩爾計畫在2026年約130台產能基礎上，於2027年增加30%，並評估2028年持續擴產。近期中國企業量產DUV微影設備的消息成為全球設備競爭的變數之一，艾司摩爾與蔡司則同步擴大先進設備供應能力。

蔡司的投資不只限於奧伯科亨。公司正在韋茨拉爾興建新的多功能工廠，並已於2025年秋季在羅斯多夫研發據點新增300㎡無塵室。

耶拿高科技據點的擴建也正在推進。海外方面，蔡司透過上海培訓中心、美國與德國物流基礎設施，以及韓國蔡司創新中心，擴大與主要半導體市場的接點。

本次公告尚未確認與特定加密資產或區塊鏈項目有直接關聯。奧伯科亨新增建築未來將分階段啟用。