SK海力士(SK hynix‧$SKHY)在美國印第安納州西拉法葉(West Lafayette)動工興建高頻寬記憶體(HBM)後段封裝暨研發設施,總投資金額超過40億美元,目標2028年下半年正式啟用。
SK海力士27日(當地時間)在普渡大學研究園區(Purdue Research Park)舉行印第安納廠動工典禮。路透(Reuters)報導,這座設施將用於AI晶片封裝與研發,潔淨室運作預計自2028年下半年展開。
這項計畫最早於2024年4月公開。SK海力士當時宣布,將在西拉法葉投資38.7億美元,打造下一代HBM專用的先進封裝生產基地與研發設施。
美國國家標準暨技術研究院(NIST)將此案定位為HBM後段產線暨先進封裝研發測試平台。美國商務部則於2024年12月拍板,最高提供4.58億美元直接補助,並搭配最高5億美元貸款額度。
官方時程的基準點落在2028年下半年。NIST資料顯示,該設施量產啟動時間訂在2028年下半年;SK海力士西拉法葉專案官網也標示,廠房建設為2026年上半年,正式運作則自2028年下半年開始。
印第安納廠是SK海力士在美國設立的首座HBM後段封裝暨研發據點。
「高頻寬記憶體(HBM)」是將多顆D記憶體垂直堆疊、藉此提升資料處理速度的高效能記憶體。它與圖形處理器(GPU)搭配使用,主要應用於AI訓練與推論伺服器,在AI晶片供應鏈中,記憶體效能與封裝能力已成為並列的競爭關鍵。
技術主軸落在下一代HBM產品。SK海力士表示,已於2026年6月18日將12層堆疊的「HBM4E」樣品送交主要客戶。
該公司說明,HBM4E每根接腳速度最高可達16Gbps,功耗效率較前一代提升20%以上。向客戶送樣,代表產品進入驗證與量產準備階段。
不過,部分外媒提及的「2029年下半年印第安納廠HBM4E量產」時程,並未在官方公告中以相同形式獲得確認。就SK海力士與美國政府文件來看,可確認的時程僅為印第安納廠2028年下半年啟用暨量產開始。
美國政府將這項計畫歸類為擴大本土AI晶片供應鏈的一環。NIST評估,該設施可支持約1000個新增廠內職缺,以及數百個建築工作機會。SK海力士自家專案網站則提出直接與間接合計創造7000個工作機會的數字。半導體製造廠不只需要生產人力,設備、建築、物流與協力廠商需求也會同步帶動。
地方層面仍有變數。西拉法葉在地媒體「Based in Lafayette」報導,印第安納州蒂皮卡努縣巡迴法院(Tippecanoe Circuit Court)已就這起38.7億美元SK海力士專案的分區變更訴訟,針對商業機密、財務資訊與不動產交易文件核發保護令。
當地審批程序與資訊公開範圍,將與廠房時程分開持續處理。西拉法葉市政府表示,由於居民關注度高,已設立SK海力士專案專屬透明度頁面。
隨著印第安納廠動工,SK海力士的AI記憶體策略正式進入「產品研發」與「美國本土封裝據點布局」同步推進的階段。依官方時程,這座設施預計自2028年下半年啟動運作。
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