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知名科技創業家Elon Musk（伊隆·馬斯克）被曝關注半導體製造核心製程「極紫外光(EUV)」光源技術，據傳他對「自由電子雷射(FEL)」方案的興趣，高過目前已商業化的「雷射產生電漿(LPP)」技術。
根據Odaily的報導，於10日（台灣時間）中午12點14分的市場消息指出，馬斯克在電動車、火箭與人形機器人之後，將目光投向了EUV光源技術，且相較於已量產應用的LPP，馬斯克似乎更青睞FEL路線。
EUV微影是利用短波長光線在晶圓上刻畫微細電路的先進半導體製程「詞」。目前次世代曝光技術「高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)」設備的光學元件供應鏈中，主要參與者包括ASML(ASML)與蔡司(ZEISS)等廠商。
FEL的原理是讓加速後的電子束通過磁場裝置產生光線。Odaily報導指出，FEL理論上可大幅降低先進半導體的生產成本，是其被關注的主因。不過這項技術目前仍處於初期研發階段，是否能實際導入半導體量產製程，尚未獲得驗證。
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