MATCH法案闖關國防授權法 中國半導體設備管制添變數

「MATCH法案」（MATCH Act）隨美國參院討論「國防授權法」再度成為焦點，中國取得先進半導體製造設備的限制問題重新浮上檯面。以公開國會文件為準，這項法案目前尚未確定併入國防授權法，仍停留在「可能」階段。

MATCH法案參院版本編號為S.4281，於2026年4月13日提交參議院，並交付銀行、住宅暨都市事務委員會審查。法案由參議員皮特·里基茨（Pete Ricketts）主導提出，安迪·金（Andy Kim）、吉姆·里施（Jim Risch）、查克·舒默（Chuck Schumer）參議員聯署。

參院軍事委員會公布的國防授權法本案編號為S.4784，即2027財年國防授權法。該法案6月15日經委員會審查後排入參院議程。參院7月14日就本會議進行動議表決，結果贊成50票、反對46票，未能過關；7月23日，同一法案的本會議進行動議又遭撤回。

爭議焦點不在晶片本身，而在製造晶片的設備。MATCH法案的用意是整合美國與盟國的半導體製造設備出口管制標準，縮小中國企業透過海外設備與維修服務規避管制的空間。

參院外交委員會共和黨方面說明，法案鎖定「深紫外光（DUV）微影設備」等關鍵製造設備、服務與技術支援，試圖從設備供應與維護階段限制先進半導體產能。

眾院方面，同類法案H.R.8170已於4月22日經眾院外交委員會通過。眾院外交委員會表示，該法案旨在限制中國取得生產先進半導體所需的關鍵設備，鎖定對象包括中芯國際（SMIC）、華為（Huawei）、華虹（Hua Hong）、長鑫存儲（CXMT）、長江存儲（YMTC）等特定生產設施。

法案力度展現在盟國對齊條款上：若盟國未在一定期限內跟上出口管制標準，美國可擴大適用「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule），此舉可能直接波及荷蘭、日本等在半導體設備供應鏈中份量吃重的國家與企業。

外國直接產品規則允許美國將出口管制延伸至使用美國技術或設備、卻在海外生產的產品。半導體設備產業的設計、零組件、軟體與維修服務分布多國，一旦管制範圍擴大，企業的合規負擔也會隨之加重。

美方的問題意識在於，只封鎖中國購入成品先進晶片的路徑仍有局限；若設備與服務持續供應，既有產能的維持與擴充空間依然存在。MATCH法案試圖透過盟國標準對齊與服務限制，來縮小這個缺口。

政策團體的支持態度相當明確。美國智庫「新美國安全中心」（CNAS）4月21日發表評論指出，現行管制體系仍有缺口，製造設備管制有機會成為長期籌碼。「負責任創新美國人」（Americans for Responsible Innovation, ARI）也對眾院委員會通過表示歡迎，評價這是AI晶片出口管制與防堵走私法案的一項進展。

不過供應鏈端的壓力仍在。DataTrack截至7月22日指出，MATCH法案仍在立法程序中，並非正式禁令；同時分析ASML、東京威力科創（Tokyo Electron）等設備廠商在中國的營收與服務曝險偏高，法案一旦通過，維修、零組件與安裝業務都可能承壓。

中國政府對美國整體半導體出口管制維持反對立場。中國外交部4月29日在例行記者會上表示，美國的半導體出口管制損害全球產業鏈與供應鏈，這項表態針對的是美國半導體管制整體，而非MATCH法案單一事件。

對台灣讀者而言，這起事件反映出半導體設備與高效能運算供應鏈的監理風險。本媒體先前報導，中國正在半導體生產設備與資料中心採購階段，擴大使用國產設備與AI晶片。美國設備管制加強與中國內需供應鏈重組，其實同屬半導體供應鏈分離的同一脈絡。

AI運算晶片與部分挖礦設備同受這條高效能半導體供應鏈牽動。不過MATCH法案的最終條文、是否併入國防授權法、施行時間點都尚未確定，對加密貨幣挖礦設備價格或供應的影響仍需進一步觀察。參院S.4784目前處於7月23日本會議進行動議遭撤回的狀態。